脉冲激光沉积系统-LMBE450
用于沉积耐高温、多元素复杂氧化物、氮化物等陶瓷材料和层状材料
技术指标:
技术指标：
极限真空：优于2.0E-8Pa（经烘烤除气后）
基片温度：RT-800℃
基片尺寸：一次可沉积两寸片1片，向下尺寸兼容
靶材尺寸：直径：一寸、两寸、20mm、40mm，厚度：4mm，一次可放置4块靶材
激光波长：248nm
最大脉冲能量：700mJ
脉冲频率范围：1~10Hz
气体：N2、O2、Ar
应用领域:
应用领域：
主要用于沉积耐高温、多元素复杂氧化物、氮化物等陶瓷材料和层状材料。
-
LED光电测试系统
用于测量LED光谱功率分布、空间光强分布、电性能测试分析
-
离子束刻蚀机 IBE
把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体
-
磁控溅射-LAB18
主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn等金属薄膜
