CHA电子束蒸发

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CHA电子束蒸发
三层以内金属总厚度超出350nm和三层以上金属

技术指标:

真空: 至4.8E-6Torr约30分钟

蒸发速率: 0.1A/s-20A/s可调，最大蒸发厚度可至1000nm。三层以内金属总厚度超出350nm和三层以上金属.

2小时起预约。

单次可蒸镀: 四寸样片6片，向下尺寸兼容，薄膜不均匀性≤±5%。

由于加班时无人员轮换，每日18:00-19:00时为加班人员短暂休息和用餐时间，涉及到贵重金属的使用，工艺时需有工作人员在场，非工艺特别赶的情况，请尽量避开预约此段时间。单次工艺1.5小时起预约。请提前10分钟到场准备样品。过时15分钟视为工艺取消。

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