Loomis解理机
技术指标: 样片要求：样品必须经过减薄至100μm左右 应用领域: 用于对GaAs、InP等样品的解理。
技术指标:
样片要求：样品必须经过减薄至100μm左右
应用领域:
用于对GaAs、InP等样品的解理。
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LED光电测试系统
用于测量LED光谱功率分布、空间光强分布、电性能测试分析
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离子束刻蚀机 IBE
把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体
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磁控溅射-LAB18
主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn等金属薄膜
