K-MAC膜厚仪
示波管上的光阻薄膜材料与掩膜板
技术指标:
测量方法: 非接触式
测量原理:反射计
类型:手动的
平台尺寸: 4" (可选6" )
活动范围:150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离)
测量范围 :20nm-5um(根据膜的类型)
目镜倍率:20x 典型值 (可选10x、50x)
测量速度:1~2 sec./site
照明类型:12V 35W Tungsten-Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer
尺寸:190 x 265 x 316 mm
重量:12Kg
探头类型:三目探头
可供选择:标准样品(K-MAC or KRISS or NIST)
应用领域:
半导体:Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS Si, Ge, SiGe... 介质材料:SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,... 平板行业:(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n -a-Si, Gate-SiNx MgO, AlQ3 , ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide... 光学涂层:硬度涂层、增反射薄膜、Color Filters、封装与功能薄膜... 太阳能电池: Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..) 聚合物:PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR... Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, ...
用于测量LED光谱功率分布、空间光强分布、电性能测试分析
把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体
主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn等金属薄膜