国产紫外光刻机 编号:MJB3
表面粗糙度以及光刻胶类型来选择合适的工艺
技术指标:
光刻版要求:目前只满足2.5寸、3寸
样品大小: 1、≤2寸 2、晶圆厚度<3mm。
分辨率:>2μm。
对准精度:5μm。
备注: 以上参数需根据具体样品规格、平整度、表面粗糙度以及光刻胶类型来选择合适的工艺。
预约该设备前先跟设备负责人沟通!!!
应用领域: 365nm宽带光源,接触式光刻。主要用于线条>2μm的2英寸样品或<2inch样品光刻。
用于测量LED光谱功率分布、空间光强分布、电性能测试分析
把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体
主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn等金属薄膜