纳米压印（紫外）
纳米压印技术是在纳米尺度获得复制结构的一种成本低而速度快的方法
技术指标:
PLC操作系统控制
压印面积： 6″
均匀气动压力：可高达5kg/cm2 的气压压印力，(25kg均匀机械压印力,可选)
加热温度：达300°C · 紫外冷光源 ·
应用领域: 纳米压印技术是在纳米尺度获得复制结构的一种成本低而速度快的方法，它可以大批量重复性地在大面积上制备纳米图案结构，而且所制出的高分辨率图案具有相当好的均匀性和重复性。
-
LED光电测试系统
用于测量LED光谱功率分布、空间光强分布、电性能测试分析
-
离子束刻蚀机 IBE
把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体
-
磁控溅射-LAB18
主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn等金属薄膜
