STEPPER I12 步进投影式光刻机
把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上
技术指标:
Resolution：0.35μm
Overlay accuracy：<75nm
Reticle：5:1 150mm*150mm
应用领域: 把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上，分区域进行步进式曝光。本机台可用于150mm×150mm掩模和φ150mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达350nm(L&S)。
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