溅射台（国产）
主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、等金属薄膜，各种氧化物薄膜，
技术指标:
溅射速率 0.1A/s-10A/s，
溅射功率 0-200W，
溅射厚度：普通金属（Ni、Al、Ti、Ag、Cr、Cu）5nm-2000nm，贵重金属（Pt、Au）5nm-500nm；
气体（Ar、O2、N2），流量范围0-100sccm。
背底真空：5E-4Pa温度：20-400℃
一次可溅射两寸片4片，向下尺寸兼容，薄膜不均匀性≤±10%"
价格： 140/30分钟
单位预约时间： 30(单位:分钟)
应用领域: 主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、等金属薄膜，各种氧化物薄膜，
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LED光电测试系统
用于测量LED光谱功率分布、空间光强分布、电性能测试分析
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离子束刻蚀机 IBE
把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体
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磁控溅射-LAB18
主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn等金属薄膜
