NLD-570 刻蚀机
可用于SiO2、石英、微透镜及SiC等材料的刻蚀
NLD-570 刻蚀机
技术指标:
设备配气：Ar、O2、O2（大、小量程之分）、CF4、C4F8、CHF3、C3F8、SF6。
Antenna RF：0-2000W。
Bias RF:0-1000W。
Shield：～ 200℃。
chiller：-20～ 40℃。
NLD COIL：60A
价格： 500/30分钟 单位预约时间： 30(单位:分钟)
应用领域: NLD(neutral loop discharge，磁中性环路放电)较ICP而言，可对形成在真空腔内的磁场强度为0的环形磁中性线施加高频电场，并由此产生等离子体。通过改变电流大小可以控制等离子体的直径及密度，所以具有高刻蚀速率、高均匀性、高等离子体密度及低压放电等优点。可用于SiO2、石英、微透镜及SiC等材料的刻蚀。
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LED光电测试系统
用于测量LED光谱功率分布、空间光强分布、电性能测试分析
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离子束刻蚀机 IBE
把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体
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磁控溅射-LAB18
主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn等金属薄膜
